随着电子信息技术的不断发展，半导体材料也经历了数次迭代。当前，以GaN、SiC为代表的第三代半导体已成为世界各国的“必争之地”，被广泛应用于制造各类电子与光电器件。然而近年来，6G通信、电动车超级快充、特高压输变电、大规模储能等新应用场景不断涌现，第三代半导体的理化特性已无法胜任更高的性能要求，因此以氮化铝（AlN）、氧化镓（Ga2O3）、金刚石（Diamond）、氮化硼（BN）为代表的第四代超宽禁带半导体材料也开始受到广泛关注。第四代半导体具有更为卓越的理化性质，尤其是远超第三代半导体的带隙，在功率电子、射频电子、深紫外光电器件等领域具有广阔的应用潜力。其中最引人注目的半导体材料就是氧化镓。