钼圆片产品参数及用途

钼圆片是由钼材料制成的圆形薄片，具有一些独特的性能参数和广泛的用途。以下是一般情况下钼圆片的性能参数和常见用途：

性能参数：

化学稳定性： 钼圆片具有良好的化学稳定性，能够抵抗许多酸碱介质的腐蚀，因此常用于一些腐蚀性较强的环境。
高熔点： 钼的熔点相对较高，约为2,623摄氏度（4,753华氏度），使得钼圆片能够在高温环境下稳定工作，适用于高温应用。
导电性： 钼是一种良好的导电材料，因此钼圆片在电子元器件和半导体行业中被广泛应用。
热膨胀系数： 钼的热膨胀系数相对较低，这使得钼圆片在高温条件下能够保持相对的稳定性，减少热应力对材料的影响。
机械强度： 钼圆片通常具有较好的机械强度，能够承受一定的机械应力。

常见用途：

真空设备： 由于钼的高熔点和良好的化学稳定性，钼圆片常用于真空设备的构件，如真空管、真空炉等。
电子元器件： 钼圆片因其良好的导电性能被广泛应用于电子元器件制造，如集成电路、电阻器等。
半导体行业： 在半导体制造过程中，钼圆片常用于制造薄膜电阻器、光掩模板等。
高温工业： 由于钼的高熔点和热稳定性，钼圆片适用于高温工业应用，例如高温炉内部构件。
实验室设备： 钼圆片也常用于实验室设备，特别是在需要抵抗腐蚀和高温的实验条件下。

需要注意的是，具体的性能参数和用途可能会根据钼圆片的制造工艺和特殊处理而有所不同。在选择和使用钼圆片时，建议根据具体的应用需求和环境条件进行考虑。

高纯钼圆片

1.物理性质如下所示：纯度:≥99.95%，密度：≥10.15克/立方厘米，熔点：2610℃ ，沸点：5560℃，形状：圆形。

2.性能:圆钼靶具有高强度，内部组织均匀，优良的抗高温蠕变性能。

3.用途：钼靶可在各类基材上形成薄膜，这种溅射膜广泛用作电子部件和电子产品，如目前广泛应用的TFT-LED（Thin Film Transitor-Liquid Crystal Displays，薄膜半导体管-液晶显示器）、等离子显示屏、无机光发射二极管显示器。场发射显示器、薄膜太阳能电池、传感器、半导体装置以及具有可调谐函数CMOS（互补金属氧化物半导体）的场效应晶体管栅极等。

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